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염소계 소독제 의존도를 낮추면서도 일관된 위생 기준을 달성합니다. 악취, 색도, 잔류 오염물을 제거하고 수질 변동이 큰 현장에서도 안정적인 소독 성능으로 재이용 확대에 기여합니다.

염소계 소독 대신 UV AOP 고도산화 기술로 NDMA 등 발암물질, 유기물, 악취를 제거합니다. 소독부산물이 전혀 발생하지 않는 친환경 방식으로 소규모부터 대형 시설까지 적용 가능합니다.

VOCs, 염소계 용제, 중금속, 질산성 질소 등 난분해성 오염물질을 UV 기반 고도산화로 무해하게 분해합니다. N-nitrosamines, 1,4-dioxane 등 발암성 부산물까지 효과적으로 제거합니다.

소독부산물 없이 염소 내성 병원성 미생물까지 완벽 제거합니다. 이취미 물질과 미량오염물질도 처리 가능하며, 컴팩트한 구조로 부지 면적을 최소화하고 염소 투입량을 대폭 줄일 수 있습니다.

반도체 고집적화에 필수적인 초순수 생산 기술입니다. TOC 자외선 설비로 VUV 파장을 조사하여 초순수 내 유기탄소(TOC)를 저감시키고, 반도체 세척 공정의 높은 수질 기준을 충족합니다.

염소계 소독제 의존도를 낮추면서도 일관된 위생 기준을 달성합니다. 악취, 색도, 잔류 오염물을 제거하고 수질 변동이 큰 현장에서도 안정적인 소독 성능으로 재이용 확대에 기여합니다.